C14631-01 是高灵敏度、性价比卓越的型号。（300 nm 至 800 nm）

C10028-02 是近红外型号。（1600 nm 至 2350 nm）

C10028-01 是近红外型号。（900 nm 至 1650 nm）

C10027-02 是超高灵敏度型号。（350 nm 至 1100 nm）

C10027-01 是超高灵敏度型号。（200 nm 至 950 nm）

C14880-01 可实现低杂散光，并通过查看光学布局实现高精度光谱分析。通过使用带有内置制冷元件的传感器，可实现低噪声和高可再现性测量。

倒置光发射显微镜是一种背面分析系统，旨在通过检测半导体器件缺陷发射的光和热来识别故障位置。

PHEMOS，能够适应未来 PHEMOS-X 是一款高分辨率微光显微镜，它能通过探测半导体器件缺陷导致发射的微弱光和热来定位失效位置。

iPHEMOS，能够适应未来 iPHEMOS-MPX 是一款高分辨率微光显微镜，它能通过探测半导体器件中缺陷导致发出的微弱光和热来定位失效位置。

Dual PHEMOS，能够适应未来 Dual PHEMOS-X 专为先进的 3D 非透明器件所设计，在这些器件中，可能需要在晶圆或芯片级的两侧（正面和背面）同时进行光学 FA。

MiNY PL 是一种使用光致发光 (PL) 测量方法的微型 LED 晶圆检查系统。

多波段等离子加工监控器 C10346-01 是一个专门设计用于监测半导体的各种制造过程中产生的光学等离子体发射的系统，包括蚀刻、溅射、清洁和 CVD。该 MPM 可以实时处理多通道记录。

L14471 光离子化发生器用于尽可能提高除静电性能。因此，它可以快速消除表面积较大的大型物体的静电，从而大幅提高制造过程中的生产率。L14471 还可有效消除高负荷或高速移动物体的静电。有两种类型的控制器可供选择：用于操作两个探头的 C14472 和用于操作四个探头的 C14546。

光离子化发生器是一种新型静电消除器，使用"光离子化"技术来实现清洁、简单且有效的离子生成。与通常使用的电晕放电法相比，光离子化发生器具有很大的优势。

L9873 光离子化发生器采用大多数生产线均支持的单型电源到仅 DC 24 V 电源，易于设置和使用。